1. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : Lieberman, Michael A
کتابخانه: كتابخانه پردیس علوم دانشگاه تهران (تهران)
موضوع : ، Plasma dynamics,، Thin films -- Surfaces,، Plasma etching,، Plasma chemistry
رده :
QC
718
.
5
.
D9
L54
1994
2. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: کتابخانه مرکزی، مرکز اسناد و تامین منابع علمی دانشگاه صنعتی سهند (آذربایجان شرقی)
موضوع : Plasma dynamics,Thin films, Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry
رده :
QC718
.
5
.
D9L54
1994
3. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: کتابخانه مرکزی و مرکز اطلاع رسانی دانشگاه محقق اردبیلی ره (اردبیل)
موضوع : Plasma dynamics,Thin films, Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry, Industrial applications
رده :
QC718
.
5
.
D9L54
2005
4. Principles of plasma discharges and materials processing]CD[
پدیدآورنده : Lieberman, M. A. ) Michael A.(, Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: كتابخانه و مركز اسناد دانشگاه كردستان (کردستان)
موضوع : ، Plasma dynamics,Surfaces ، Thin films,، Plasma etching,، Plasma chemistry
رده :
QC718
.
5
.
D9
L54
]
CD
[
5. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : Lieberman, M. A.) Michael A.(
موضوع : ، Plasma dynamics,، Thin films-- Surfaces,، Plasma etching,، Plasma chemistry
۳ نسخه از این کتاب در ۲ کتابخانه موجود است.
6. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: كتابخانه مركزی و مركز اسناد دانشگاه مازندران (مازندران)
موضوع : Plasma dynamics,Thin films- Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry- Industrial applications
رده :
QC718
.
5
.
D9
,
L54
2005
7. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
کتابخانه: کتابخانه مرکزی، مرکز اسناد و تامین منابع علمی دانشگاه صنعتی سهند (آذربایجان شرقی)
موضوع : Plasma dynamics,Thin films- Surfaces,Plasma etching,Plasma chemistry- Industrial applications
رده :
QC718
.
5
.
D9L54
2005
8. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : Lieberman, M. A. )Michael A.(
کتابخانه: كتابخانه مركزی و مركز اسناد دانشگاه صنعتی خواجه نصير الدين طوسى (تهران)
موضوع : ، Plasma dynamics,Surfaces ، Thin films,، Plasma etching,Industrial applications ، Plasma chemistry
رده :
QC
718
.
5
.
D9
L54
2005
9. Principles of plasma discharges and materials processing
پدیدآورنده : Lieberman, Michael A.
کتابخانه: کتابخانه پژوهشگاه دانشهای بنیادی (تهران)
موضوع : ، Plasma dynamics,Surfaces ، Thin films,، Plasma etching,Industrial applications ، Plasma chemistry
رده :
QC
718
.
5
.
D9L53
2005
